進駐名稱:
Platform 2026 藝術進駐徵件
截止日期:
2025 年 6 月 30 日
公告日期:
無
公告方式:
所有藝術家將於 2025 年秋季收到入選通知。
組織名稱:
Platform 是位於芬蘭相對邊緣的小鎮瓦薩的藝術機構。他們經營著一個藝術空間和一個駐地項目，旨在為那些原本體驗受限的地區提供不同視角的現場體驗。
成立年份:
2015 年
語言:
英語、瑞典語或芬蘭語
進駐期間:
我們正在尋找可以停留長達 3 個月的藝術家，但也會考慮 1-2 個月的要求。
申請連結與方式:
請嚴格遵守以下指示。不符合這些要求的申請將不予考慮。
申請者必須在 2025年6月30日前，將數位申請 (digital application) 發送至 platform.rf@gmail.com，郵件主旨須註明「駐地申請 2026 (Residency Application 2026)」。申請內容須以單一PDF文件 (ONE PDF document) 形式發送，文件標題須為您的完整姓名 (full name)。請勿在電子郵件中貼上任何不屬於PDF文件的相關資訊。
請在PDF中包含以下內容：
1. 一份非正式的計畫書及動機信 (An informal project plan and motivation letter)，最多1頁 (max 1 page)。
信件的目的是描述您設想在瓦薩 (Vaasa) 執行的專案類型、申請本次駐地 (residency) 的動機、您的期望 (expectations)，以及您的專案或過往專案如何與本年度主題 (this year’s theme) 相關。
計畫書中還應包含您偏好的時間長度 (preferred period of time) 和您希望在2026年停留的月數 (how many months)。同時請說明該時間段對專案是否重要，並清楚陳述不適合的時間 (not suitable)。
（駐地機構正在尋找最多可停留3個月 (up to 3 months) 的藝術家，但也會考慮1-2個月的申請。雙人組合 (Duos) 也歡迎申請。）
2. 過往專案或藝術作品的描述和圖片 (Descriptions and images of 5 previous projects or artworks)共 5 個。若涉及影片 (videos)，請在PDF中添加直接的網站連結 (direct links to websites)。
3. 一份最多兩頁的履歷表 (CV of max two pages)，包含：姓名、出生日期和目前所在地 (current location)。
資格:
本次公開徵件 (open call) 的主題是「抵抗的實踐，修復的行動 (Practices of resistance, acts of repair)」。駐地邀請參與者探索抵抗 (resistance) 與修復 (repair) 之間相互關聯的概念——它們並非固定類別 (fixed categories)，而是不斷演變、具關聯性 (relational) 的實踐，塑造了我們對周圍世界的反應。
抵抗往往就是修復。它是在面臨瓦解的威脅時，將事物聚合在一起，在破壞 (disruption) 面前創造延續性 (continuity)。修復也是一種抵抗——拒絕拋棄性 (disposability)，珍視已被破碎 (fractured) 的部分，堅持即使無法完美，復原 (restoration) 仍是可能的。這些行動並非線性 (linear)。它們不遵循腳本 (script)。有時它們是可見的：重建、重新配置、刻意的保留 (a deliberate withholding)。其他時候，它們是安靜且持續的——嵌入在重複 (repetition)、維護 (maintenance)、記憶 (memory) 之中。
駐地機構歡迎廣泛的詮釋 (wide range of interpretations)，並鼓勵跨學科方法 (cross-disciplinary approaches)。本次駐地尋求的不是答案，而是透過創作 (making)、反思 (reflecting) 和處於過程之中 (being in process) 的投入且深思熟慮的探索 (engaged, thoughtful exploration)。
＊請參考徵件文件與網站，以利清楚理解，中文翻譯僅供參閱。
獎勵:
駐地提供住宿 (accommodation)、工作室 (studio)、旅行費用 (travel expenses)（一次往返行程，以最經濟的方式）和工作補助金 (working grant)（根據每日津貼 (per diem) 計算，約每週300歐元）。他們還提供一筆小型製作預算 (small production budget) 1000歐元，藝術家可憑原始收據 (original receipts) 報銷，該收據須明確關聯 (specifically connected) 到駐地期間製作的專案採購。
成果:
藝術家被要求在駐地開始時，就自己的作品或做一次自我介紹，舉行公開講座 (public talk)、表演 (performance)、工作坊 (workshop) 或演示 (presentation)*。他們期望藝術家能以英文、瑞典文或芬蘭文進行溝通 (communicate)，並要求藝術家至少將駐地期間的80%時間 (at least 80% of the residency’s duration) 待在瓦薩，因為工作補助金是按在瓦薩停留的天數 (proportional to days spent in Vaasa) 計算的。藝術家須向 Platform 提交產出專案的文件記錄 (documentation of the produced project)，以及一份關於他們在駐地經驗的簡短報告/文本 (short report/ text)，以便在網站上發布 (published on the website)。
評選機制:
無
社群媒體連結:
https://www.instagram.com/platform_rf/
申請費:
無
參與費:
無
進駐費:
無
住宿費:
無
申請者支付:
無
由進駐單位提供:
藝術家可獲得自行車、工具及設備。公寓和工作室均提供無線網路。
資源支援:
駐地提供旅遊費用（一次往返，盡可能便宜）和工作補助（以每日津貼計算，每週約 300 歐元）。
獎學金:
無
工作室:
駐地專案提供工作室。 Platform 在市中心擁有工作室空間，與我們的專案空間直接相連。工作室專供藝術家使用，可在白天任何時間使用。
住宿:
此住所提供住宿，公寓位於瓦薩市中心附近，不與任何人共用。
其他設施:
藝術家將獲得一位聯絡人，該聯絡人將幫助藝術家熟悉瓦薩號、協助完成專案、幫助與人聯繫、為專案尋找材料、尋找最好的餐廳和桑拿浴室等。如果需要任何額外的幫助，必須事先達成協議。
地點:
RF Platform Kyrkoesplanaden 20 D 瓦薩 芬蘭
機場:
瓦桑倫托阿塞馬 (VAA)
駕駛須知:
無
聯絡資訊:
platform.rf@gmail.com
電子郵件:
platform.rf@gmail.com
聯絡電話:
無